纳晶科技申请电致发光基板及包括其的电致发光装置专利，可以同时避免混色又可以保证发光区域膜层厚度均匀性

2024年3月22日消息，据国家知识产权局公告，纳晶科技股份有限公司申请一项名为“电致发光基板及包括其的电致发光装置“，公开号CN117750809A，申请日期为2022年9月。

专利摘要显示，本公开涉及电致发光基板及包括电致发光基板的电致发光装置。该电致发光基板包括含像素驱动电路的基材层和位于基材层上的阵列排布的多个像素区域，像素区域由像素隔离结构限定，至少一部分像素区域包括第一电极层，位于第一电极层上的第一绝缘层和多个空白层，各空白层由至少部分第一绝缘层围绕所形成且互相分隔，像素隔离结构的厚度大于第一绝缘层的厚度；至少一部分像素区域内对应的第一电极层的内部具有间隔。通过像素隔离结构和第一绝缘层两者的结合，可以同时利用像素隔离结构和第一绝缘层的优点，即避免混色又可以保证发光区域膜层厚度均匀性。另外，间隔的设计进一步提高了电致发光装置的发光均匀性或者分辨率。