格隆汇12月29日丨龙图光罩(688721.SH)在投资者互动平台表示,关于多重曝光技术,其在理论上确实可以通过图形分解和多次图案化流程,利用相对成熟的掩模版技术来支持更先进的芯片制程,但晶圆厂的潜在成本和工艺难度极高。掩模版的制程节点(如“40nm掩模版”)并非直接指其自身图形的最小物理线宽,而是指它能够稳定支持下游晶圆厂制造的芯片工艺节点。公司目前已完成40nm工艺节点的生产设备布局,并正积极推进65nm产品的送样以及90nm节点产品的量产导入。在产能建设方面,珠海募投项目已于2025年第二季度开始小规模量产,目前正处于产能爬坡与市场拓展的关键阶段,公司正致力于加速产能利用率的提升与客户合作的深化。关于公司各项业务的具体进展,请以官方披露的定期报告或临时公告为准。
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