芯越微电子申请半导体晶圆蚀刻灰化后清洗液及清洗方法专利，保证芯片良率

国家知识产权局信息显示，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司申请一项名为“一种半导体晶圆蚀刻灰化后清洗液及清洗方法”的专利，公开号CN121450393A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明提供了一种半导体晶圆蚀刻灰化后清洗液及清洗方法，其属于半导体晶圆制造工艺技术领域。本发明提供的半导体晶圆蚀刻灰化后清洗液，以质量百分含量计，包括氟化物35~50%、有机胺10~25%、螯合剂12~22.5%、非唑类缓蚀剂0.01~1%和余量水，所述清洗液不含有机溶剂、强酸和强碱中的任意一种。本发明提供的清洗液含有较高含量的氟化物并采用了非唑类缓蚀剂，能够在完全高效去除等离子体灰化后产生的高密度残留物的同时，不腐蚀铜、铜合金、阻挡层以及低k介质层，避免了唑类缓蚀剂吸附在晶圆表面在后续清洗步骤造成残留，保证芯片良率，且不含有机溶剂，环保友好。

天眼查资料显示，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本1847.4296万人民币。通过天眼查大数据分析，芯越微电子材料（嘉兴）有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可15个。

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