摩根大通分析师与阿斯麦管理层会面后表示,公司正研究在2028年生产逾110部极紫外光(EUV)光刻机,以应付AI带动的需求。阿斯麦早前已表示,2027年的EUV光刻机产能几近售罄,当年可生产至少80部,并计划在2028年把产量提高约30%。小摩引述管理层指,目前需求仍然“非常非常强劲”,大部分新订单已是2028年交付。小摩指出,阿斯麦目前扩大EUV产量的主要限制并非供应链,而是EUV光刻机的组装速度。
该行预计,英特尔在2027年将再次成为阿斯麦的重要客户;至于马斯克正在筹建的Terafab,则被列为正在发展中的新客户。至于新一代High NA EUV光刻机,该行预计客户将于2028年开始采用,但较大规模的使用料会在未来10年逐步增加。中国市场方面,该行预计阿斯麦于2027年向中国记忆体芯片制造商的销售将较强。
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